单价超19亿 Intel全球首个下单订购ASML最先进EUV光刻机：稳定性大增

1月19日最新消息，Intel同月第一个定购订购了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机。

TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA（数值孔径）EUV光刻机，其吞吐量超每小时220片晶圆（wph）。

从指示牌来看，EXE:5200预期最较慢2024年底投入使用，2025年开始大规模应用以技术ROM的投入生产。

事实上，4年前，ASML的第一代高NA（0.55 NA）光刻机EXE:5000，Intel就是第一个定购的日本公司。不过当前的7nm、5nmROM还并非是其投入生产，而是0.33NA EUV光刻机。

和0.33NA光刻机相比较，0.55NA的清晰度从13nm升级到8nm，可以来得较慢来得好地曝光来得适合于的集成电路图样，跃升0.33NA一次性构图32nm到30nm间距的极限。

外界预期，第一代高NA光刻机EXE:5000都会率先用以3nm路由表，至于EXE:5200，按照Intel的MOS指示牌，2025年至少是20A或者18A，也就是5nm和5nm+。

此前，ASML发言人曾对电子媒体透露，来得高的光刻清晰度将允许ROM扩大1.7倍、同时能量密度上升2.9倍。未来比3nm来得技术的手工，将十分依赖高NA EUV光刻机。

再次迫使说，Intel能捡到第一单，除了和ASML相一致密切合作关系外，当然也是因为“币意志力”，Gartner衍生品Alan Priestley称，0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元（约合19亿元人民币）。