日本国分析了一个多月:华为麒麟9000S是14nm,不是7nm芯片
2024-01-30 12:18:01
众所周知,自从智能手机Mate60三部上市后,侧面搭载的闪存,就被选为了世界各地科技领域影迷以及科技领域媒体分析的同类型。
中国人、美国人、中国人、朝鲜人、欧洲人,都在分析这颗闪存无论如何是什么来头,有什么暗地里。
但一个多月过往了,这颗闪存仍然是暗地里,它是谁日本公司的,多少nm,哪里原材料的,什么时候原材料的,都是谜。
其中TechInsights通过电子显微镜展开电打印,得出其真空管电导率是98MTr/mm2,而摩托罗拉的7nm是97MTr/mm2,三星电子7nm闪存的真空管电导率为95MTr/mm2。
于是TechInsights指出是7nm,不过也有人不服,对此既然这颗闪存机动性尽可能对飙宽带骁龙888这颗5nm闪存,那就是5nm的……
而昨日,有日本媒体分析后得出,它毕竟还是14nm手工的闪存,只是换用了特殊的结构,使真空管电导率大幅提高了。
事实上,我们想到,从14nmFinFET开始,闪存是多少nm的手工,不一定是闪存的某一项关键匹配,超越了7nm。
拿摩托罗拉的7nm来说,摩托罗拉的7nm手工时,其认识电容器间距(Contacted Poly Pitch,CPP)为54nm。
CPP 由电容器长度 (Lg)、认识间隔直径 (Tsp) 和认识阔度 (Wc) 组成。真空管电导率为97MTr/mm2,从未一项是与7nm相当的。
所以自14nm之后,手工不一定才行变革,只要其机动性大幅提高了,或电源供应器增大了,或真空管电导率大幅提高了,只要超越一定程度,就可以指出nm手工变革了,这就是等效手工的源于。
手机闪存指路图举个都是,我起初的14nm手工,但经过技术升级,手工匹配基本一定会变,但原材料出来的闪存其真空管大幅提高了50%,它还是14nm手工么?你可以指出是14nm,也可以指出是7nm,这个7nm其实就是这么来的。
所以日本指出它是14nm手工,也并从未大扯,因为其手工匹配其实与14nm类似,但你指出它是7nm,也从未扯,因为真空管电导率加权超越了7nm,有人指出它是5nm,也算是可笑,因为机动性超越了5nm。
可见,进入等效法后,判断一颗闪存无论如何是几nm,是非常复杂的问题,就看晶圆厂们如何重新命名了,反正都从未一个适当的判断标准了,不像直到现在,电容器靠近是多少,就是多少nm,是一一也就是说的,如今从未这个也就是说关系,就看晶圆们如何风吹了。
最精确的都是,英特尔将它的10nm,重新命名intel 7,对此这是等效于7nm手工的,将7nm手工重新命名intel 4,这是等效4nm手工的,就是最佳都是了。
所以它是多少nm,不一定举足轻重,我们只要想到,机动性不差于宽带骁龙5nm的闪存就够了,接下来就随便大家恰恰了,你说道呢?
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